2025年7月18至7月21日，由《表面技术》编辑部、《表面科学技术(英文)》编辑部主办，西南技术工程研究所、清华大学、北京航空航天大学、浙江大学等多所高校和科研院所联合承办的2025国际表面科学技术与应用学术会议（ICSSTA 2025）在浙江省杭州市召开。此次会议以“聚焦表面科学技术创新，扩大国际科技交流合作”为主题，邀请了中国工程院宫声凯、韩恩厚等多位表面工程领域知名院士和行业专家出席会议并做大会报告，汇聚了全球表面科学技术领域的众多专家学者、企业家共同交流该领域的最新研究成果和业界动态。
在“物理气相沉积技术”分论坛上，我院研究生王道洋做了《脉冲偏压幅值对TiZrN/TiSiN纳米多层薄膜微观结构和性能的影响》的口头报告，报告围绕关键零部件在极端环境下的应用需求，通过弧辉复合等离子体放电技术，深入揭示了TiZrN/TiSiN薄膜在微观结构、元素组成、相结构、力学性能、摩擦磨损及耐腐蚀性能等方面的演变机制，为薄膜沉积工艺优化提供了新思路，具有较强的理论价值与工程应用前景。
此次参会展现了我院研究生的科研能力与精神风貌，一定程度上促进了我院与国内知名高校及科研机构之间的深入交流，对于进一步开展研究生的课题研究具有一定推动作用。
